中国光刻胶行业近年来取得了显著的发展，成为全球半导体和微电子制造领域的重要组成部分。光刻胶是一种对光敏感的混合液体，通过光化学反应，经曝光、显影等工序将微细图形从掩膜版转移到待加工基片上。其技术参数如分辨率、对比度和敏感度直接影响到芯片制造的精度和质量。
中国光刻胶行业的发展历程可以追溯到20世纪70年代，当时国内与国际水平相差无几。然而，由于种种原因，中国在光刻胶领域的研发逐渐滞后。直到近年来，随着半导体市场的迅速发展，中国光刻胶行业迎来了新的发展机遇。目前，中国在半导体光刻胶领域已有所突破，未来产业具有良好的发展前景。
根据市场数据，2019年中国光刻胶销售额达到人民币81.4亿元，2020年达到87.4亿元左右，约占全球市场总量的15%。预计到2023年，中国光刻胶市场规模约为121亿元。这一增长趋势得益于显示面板和先进的半导体生产向中国的迁移。
尽管中国光刻胶行业取得了一定的成绩，但高端产品仍主要依赖进口。目前，全球光刻胶市场主要由日本JSR、东京应化、信越化学和美国杜邦等企业垄断。中国本土企业如北京科华、南大光电和晶瑞电材等虽然在中低端市场占有一席之地，但在高端市场仍需努力。
为了推动光刻胶行业的发展，中国政府出台了一系列支持政策。《新材料关键技术产业化实施方案》和《关于促进集成电路产业和软件产业高质量发展企业所得税政策的公告》等政策为光刻胶行业提供了广阔的市场前景和良好的生产经营环境。此外，地方政府也纷纷响应中央号召，制定了相关发展计划和示范指导目录。
中国光刻胶行业的产业链覆盖范围广泛，从上游基础化工材料行业到中游光刻胶制备，再到下游PCB、面板和半导体产业。由于光刻胶技术含量高且处于产业链上游，其质量直接影响下游产品的质量。因此，下游企业对光刻胶供货企业的质量及供货能力非常重视，通常采取认证采购的商业模式。
展望未来，中国光刻胶行业将呈现以下趋势：一是EUV光刻胶、产品定制化和国产化进程加快；二是到2029年市场规模有望突破200亿元；三是国际贸易摩擦推动行业国产化进程。随着技术的不断突破和市场需求的增加，中国光刻胶行业将迎来更加广阔的发展空间。
综上所述，中国光刻胶行业在技术研发、市场规模和政策支持方面都取得了显著进展。尽管面临高端产品依赖进口的挑战，但随着国内企业的不断创新和政府的大力支持，中国光刻胶行业有望在未来实现更大的突破和发展。
